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MEMS加工

為成就您的產(chǎn)品,而努力

Work hard to make your product

器件封裝
  • 倒裝鍵合
    芯片尺寸:5*5mm-5*5cm 厚度<2mm,溫度<450℃ 精度:±3μm,壓力<100kg,2寸晶圓對(duì)晶圓鍵合
  • 晶圓鍵合
    陽(yáng)極鍵合、共晶鍵合(PbSn,AuSn,CuSn,AuSi等等)、膠鍵合(BCB,SU8,鍵合專(zhuān)用膠),對(duì)準(zhǔn)精度±5μm
  • 點(diǎn)膠
    工作范圍:≤300*300mm,膠量控制:容積式和氣壓式,膠水黏度<50kCPS,單次膠量<0.16900ml,時(shí)間設(shè)置范圍<9.999sec
  • 貼片
    銀漿、焊料
  • 引線(xiàn)
    球形焊、楔形焊;Au線(xiàn),Al線(xiàn)
  • 回流爐
    真空:2mbar,溫度<450℃±0.05℃
  • 平行封焊
    各類(lèi)金屬管殼,位置精度:±0.0381mm,壓力<5kg
  • TSV(硅通孔)工藝
    1、通孔的形成;2、絕緣層、阻擋層和種子層的淀積;3、電鍍填充,去除和再布線(xiàn);4、晶圓減??;5、鍵合、劃片
  • TGV(玻璃通孔工藝)
    可完成打孔、沉積、填充再布線(xiàn)、減薄、鍵合劃片等。




  • 案例展示


                               

            底層管芯與頂層管芯堆疊連接            Cu-Cu Metal Diffusion Bond             TSV(Cu&Sn鍵合)Process            Ultra High Density TGV For MEMS







    金屬氣密封裝的優(yōu)勢(shì)與不足詳解
    金屬氣密封裝的優(yōu)勢(shì)與不足詳解

    2025-06-02

    在芯片封裝領(lǐng)域,當(dāng)我們?cè)谟懻?nm制程、Chiplet架構(gòu)時(shí),很少有人注意到這個(gè)看似"古老"的封裝技術(shù)仍在軍用航天、汽車(chē)電子等領(lǐng)域發(fā)揮著不可替代的作用...

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    為什么深硅刻蝕中C4F8能起到鈍化作用?
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    2024-11-27

    RIE是一種結(jié)合了物理濺射和化學(xué)反應(yīng)雙重機(jī)制的刻蝕技術(shù)。在等離子體中,離子和中性自由基共同作用于材料表面。其中,自由基的密度遠(yuǎn)高于離子,它們通...

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    【半導(dǎo)體材料】電子封裝材料有哪些?
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    2024-11-29

    電子封裝材料作為連接芯片與外部世界的橋梁,其重要性不言而喻。合格的封裝不僅能夠?yàn)樾酒峁┪锢肀Wo(hù),實(shí)現(xiàn)標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格化的互連,更是確保電子產(chǎn)品性能...

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    【MEMS工藝】三種常見(jiàn)CVD技術(shù),你知道的有哪些?
    【MEMS工藝】三種常見(jiàn)CVD技術(shù),你知道的有哪些?

    2024-11-04

    本文將詳細(xì)介紹目前三種常見(jiàn)的CVD技術(shù)——低壓化學(xué)氣相沉積(LPCVD)、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)以及高密度等離子體化學(xué)氣相沉...

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