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  • lift-off工藝中“毛刺”的產(chǎn)生和改善措施
    lift-off工藝中“毛刺”的產(chǎn)生和改善措施

    2023-07-25

    在材料、微電子等研究課題中,制作高品質(zhì)的電極是準確反映材料或者器件本身性能的前提條件,為此我們需要制作一個高品質(zhì)的電極。在此,光刻中剝離(li...

  • ICP刻蝕的基本要求
    ICP刻蝕的基本要求

    2023-07-24

    (1)負載效應 刻蝕中還存在負載效應,即發(fā)生刻蝕速率變慢的情況。分為宏觀負載效應和微觀負載效應??涛g面積很大時,因為氣體傳輸受限和刻蝕氣體耗盡...

  • ALD原子層沉積技術(shù)
    ALD原子層沉積技術(shù)

    2023-07-24

    原子層沉積(Atomic layer deposition)是一種可以將物質(zhì)以單原子膜形式一層一層的鍍在基底表面的方法。原子層沉積與普通的化學沉積有相似之處。但在...

  • 干涉光刻
    干涉光刻

    2023-07-24

    干涉光刻又叫全息光刻,是一種特殊的光刻手段,其特點是可以通過簡單的設備即可獲得百納米周期性結(jié)構(gòu)。下面我們簡單介紹什么是干涉光刻、干涉光刻的一...

  • 微納加工中EMI濺射鍍膜的特點
    微納加工中EMI濺射鍍膜的特點

    2023-02-21

    微納加工中的EMI:是電磁波會與電子元件作用,產(chǎn)生干擾現(xiàn)象。它有以下幾個特點: A、如果國內(nèi)擁有自主知識產(chǎn)權(quán)的話,價格相比較更低。 B、更加環(huán)保...

  • 微納加工中晶圓的基本原料是什么?
    微納加工中晶圓的基本原料是什么?

    2023-02-01

    微納加工中的硅從石英沙精練出來,對硅元素加以純化便晶圓,它的純度可以達到百分之九十九,接下來是將些純硅制成硅晶棒,成為制造積體電路的石英半導...

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