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2023-08-29
離子刻蝕主要應用在微電子制作工藝中，所有主要的處理對象是硅，用于精確圖形轉(zhuǎn)移。此外其還廣泛應用于等離子刻蝕平板、薄膜刻蝕以及纖維刻蝕中。 1.精...
2023-08-28
（2）熱壓法 熱壓法（hot embossing）是一種應用較廣泛的快速復制電泳微通道的芯片制作技術，適用于PMMA與PC等熱塑性聚合物材料。熱壓法的模具...
2023-08-28
點膠工藝如何不溢膠？ 要避免點膠過程中的膠水溢出，可以采取以下措施： 1. 控制點膠壓力 調(diào)整點膠設備的壓力，確保膠水以適當?shù)膲毫α鞒觥＿^高的壓力...
2023-08-25
（二）硅表面微機械加工技術 美國加州大學Berkeley分校的Sensor and Actuator小組首先完成了三層多晶硅表面微機械加工工藝，確立了硅表面微加工工藝...
2023-08-22
刻蝕偏差是指刻蝕以后線寬或關鍵尺寸間距的變化（見圖1）。它通常是由于橫向鉆刻引起的（見圖2），但也能由刻蝕剖面引起。當刻蝕中要去除掩模下過量的...
2023-08-22
（1）光刻和刻蝕技術 傳統(tǒng)的用于制作半導體及集成電路芯片的光刻和刻蝕技術，是微流控芯片加工工藝中最基礎的。它是用光膠、掩膜和紫外光進行微細加工...
